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LED芯片技术的发展

放大字体  缩小字体 发布日期:2016-05-09  浏览次数:251
    自从1993年Nakamura发明高亮GaN蓝光LED以来,LED技术及应用突飞猛进。究其原因有两个方面:1)全系列RGB LED产生,其应用面大大拓宽,2)白光LED产生,让追求低碳时代的人们期望LED尽快成为智能化的第四代固态照明光源。虽然LED的发光效率已经超过日光灯和白炽灯,但商业化LED发光效率还是低于钠灯(150lm/W)。那么,哪些因素影响LED的发光效率呢?就白光LED来说,其封装成品发光效率是由内量子效率, 电注入效率, 提取效率和封装效率的乘积决定的。 
        其中内量子效率主要取决于PN结外延材料的品质如杂质、晶格缺陷和量子阱结构, 目前内量子效率达60%[1]。电注效率是由P型电极和N型电极间的半导体材料特性决定的,如欧姆接触电阻,半导体层的体电阻(电子的迁移率)。对460nm蓝光(2.7eV)LED,导通电压3.2-3.6V, 所以目前最好的电注入效率84%。但AlGaInP LEDs的大于90%。提取效率由半导体材料间及其出射介质间的不同折射率引起界面上的反射,导致在PN发射的光不能完全逸出LED芯片。提取效率目前最大达75%[2]。封装效率由封装材料荧光粉的转换效率和光学透镜等决定的,封装效率为60%[3]。因此目前白光LED的总效率可达23%。就LED芯片制造技术来说,它只直接影响着电注入效率和提取效率,因为内量子效率.和封装效率分别直接与MOCVD技术和封装技术有关,因此本文着重介绍相关于电效率和提取效率的LED芯片技术及其发展趋势。
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